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GB 4789.15-2016 霉菌和酵母计数 已经实施一段时间了，很多小伙伴们在论坛中反应新版国标汇总霉菌正置培养容易污染，今天小编就来为大家分析一下这个问题。
GB 4789.15-2016相比GB 4789.15-2010，最大的区别可能就在于对平皿的培养方式。2016版的国标在5.2中要求：琼脂凝固后，正置平板，置28℃±1℃培养箱中培养，观察并记录培养至第5d的结果。其实针对这一条，需要注意两点：第一，是需要对平板进行观察的，不能直接培养至第5天计数，因为霉菌的特殊性，在培养过程中会产生大量孢子，导致整个平板蔓延。因此，在培养后的第2天开始，就要对平板进行观察，并计数典型菌落，而这样的观察在之后每一天都应该进行，直至培养第5天。第二，就是正置培养。这一点是16版国标与旧版最大的区别，10版之前的国标都是倒置培养的。而进行正置培养，很多朋友可能都会遇到平板被霉菌污染的问题，比如图中的情况，这怎么解决呢？
其实造成这种情况的原因有很多种，可能有培养箱环境污染，平皿冷凝水污染，操作环境污染、培养基问题等等，这些问题都该如何解决呢？
正置培养和倒置培养有什么区别？很多实验室培养霉菌采用的是专用的霉菌培养箱，所以培养箱空间里会有大量的霉菌孢子。而平皿的盖和底是有一定缝隙的，尤其是玻璃平皿缝隙还是比较大的，正置培养中，孢子会向上飞扬通过缝隙落到平板的培养基上，导致污染。细心地实验猿可能发现，污染的菌落大部分都是在平皿边缘生长的。用一次性塑料平皿来培养，污染的概率就会小很多，因为一次性塑料平皿的盖和底之间的缝隙相比之下是比较小的。因此培养箱环境中的孢子可能会是主要污染源。这样一来，就应该对培养箱进行杀菌。可以考虑用紫外线杀一下，同时辅助消毒剂擦拭的方法，常用消毒剂比如75%酒精和新洁尔灭等，应该注意的是，这样的杀菌操作也是需要经常进行的，因为霉菌的孢子是十分难清楚的，而每次培养可能又会引进新的污染源，可以考虑每周进行两次，保证培养环境无污染源。
还有别的方面需要注意，首先就是平皿上的泠凝水问题。正置培养过程中，若是平皿的上盖有泠凝水，在培养过程中冷凝水滴落到培养基上，也极容易造成菌落蔓延，平皿污染。因此在培养之前，一定要保证平皿干燥，可以把平皿放在37℃的环境里烘干，烘干之后再进行培养，就会避免这个原因造成的污染。
最后还有就是操作环境和培养基的污染。因为无菌室里可能也会因为灭菌效果不理想造成污染。小编之前工作的实验室，操作台使用紫外线灭菌，经常就会灭菌不彻底有孢子污染，尤其是在进行过霉菌的相关检测之后。所以在进行过霉菌检测之后，适当的增长灭菌时间，可能会达到比较理想的效果。另外小编之前工作的实验室，为了彻底解决无菌室空间孢子污染的问题，还特地购买安装了臭氧发生器，通过紫外线+臭氧的双重消毒模式，效果就十分理想了。
大家如果还是想验证一下究竟是什么原因造成的污染，这里提供一个简单的验证试验：在正常检测的环境中倒一组空白平皿，将这些平皿分为AB两组，其中A组用封口膜将平皿封好，B组不封，均放置在培养箱中正置培养。若是A组B组均有霉菌生长，则需要考虑培养基污染或者操作环境的污染；若是A组不生长霉菌而B组生长，则需要考虑是培养箱内的环境污染。通过这个小试验，可以基本上确定污染源，然后针对污染源进行相应的处理。 
